特許

J-GLOBAL ID：200903050364066840

像加熱装置

発明者： 植川 英治 ,  西田 聡 ,  中園 祐輔
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-157257
公開番号（公開出願番号）：特開2007-328020
出願日： 2006年06月06日
公開日（公表日）： 2007年12月20日
要約：

【課題】回転体の温度を検知する温度検知手段について熱応答性及び感度の低下を防止できるとともに、回転体外周面の温度の均一化を達成できる像加熱装置の提供。【解決手段】回転体10の外周面と耐熱性シート16との接触領域において前記回転体と反対側に温度検知手段15を有する。制御手段27は、前記温度検知手段で検知する前記回転体の温度に応じて、前記耐熱性シートを介して前記回転体を加熱する加熱体14の発熱を制御する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

回転体と、前記回転体の外周面と接する耐熱性シートと、前記耐熱性シートを前記回転体の外周面に接触させてニップ部を形成し前記ニップ部で前記耐熱性シートを介して前記回転体を加熱する加熱体と、前記加熱体の発熱を制御する制御手段と、を有し、前記回転体の熱によって記録材上の像を加熱する像加熱装置において、 前記回転体の外周面と前記耐熱性シートとの接触領域において前記回転体と反対側に温度検知手段を有し、前記温度検知手段で前記シートを介して検知する前記回転体の温度に応じて前記制御手段により前記加熱体の発熱を制御することを特徴とする像加熱装置。

IPC (1件)：

G03G 15/20

FI (3件)：

G03G15/20 555 ,  G03G15/20 505 ,  G03G15/20 525

Fターム (18件)：

2H033AA03 ,  2H033AA08 ,  2H033BA30 ,  2H033BA31 ,  2H033BA32 ,  2H033BA51 ,  2H033BA54 ,  2H033BA55 ,  2H033BA56 ,  2H033BA57 ,  2H033BB04 ,  2H033BB15 ,  2H033BB29 ,  2H033BB33 ,  2H033BB34 ,  2H033CA07 ,  2H033CA30 ,  2H033CA45

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 像加熱装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-279075   出願人：キヤノン株式会社