特許
J-GLOBAL ID：200903050369400293
基板乾燥装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-248808
公開番号（公開出願番号）：特開平8-088210
出願日： 1994年09月16日
公開日（公表日）： 1996年04月02日
要約：
【要約】【目的】 ガイド部を吸引することによって洗浄液を基板から完全に除去し、乾燥不良を防止することができる基板乾燥装置を提供する。【構成】 ガイド部28bは、基板Wを受け入れる際に基板Wの周縁部を案内するための傾斜面を有する凸部28b1 と、受け入れた基板Wの周縁部を支持するための凹部28b2 とを有する。凹部28b2 の底部には、そのほぼ中央部に吸引孔28b3 がガイド部吸引通路28b4 に連通して形成されている。ガイド部吸引通路28b4 は、固着部28cに形成された固着部吸引通路28c1 に連通し、固着部吸引通路28c1 は、連結部吸引通路を介して連結部の側面部に配設された吸引管に連通接続されている。
請求項（抜粋）：
基板を保持手段で保持した状態で洗浄液中から引き上げ、水溶性の有機溶剤の蒸気で洗浄液を置換し、乾燥風を供給することによって基板を乾燥する基板乾燥装置において、基板端面を案内して基板を保持する、前記保持手段のガイド部に吸引孔を設けて、前記基板のガイド部近辺に付着している洗浄液を吸引除去するようにしたことを特徴とする基板乾燥装置。
IPC (4件)：
H01L 21/304 361
, H01L 21/304
, F26B 5/12
, F26B 19/00
