特許
J-GLOBAL ID:200903050379975740

フォトニック結晶構造及び作製法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 雨宮 正季
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-059927
公開番号(公開出願番号):特開2001-249235
出願日: 2000年03月06日
公開日(公表日): 2001年09月14日
要約:
【要約】【課題】 フォトニック結晶で光回路を構成する場合に3次元フォトニック結晶のみでは回路を作り込むことが困難であり、2次元フォトニック結晶では閉じ込めが不十分になるという問題点を解決する。【解決手段】 第一の3次元フォトニック結晶17、2次元フォトニック結晶14、第二の3次元フォトニック結晶17を積層した構造を有することを特徴とするフォトニック結晶構造及び上記3次元フォトニック結晶を屈折率の異なる層を交互に積層することにより形成し、2次元フォトニック結晶をリソグラフィにより2次元の周期構造の加工を施して形成する作製法で解決できる。【効果】 2次元フォトニック結晶の表裏面を3次元フォトニック結晶を形成したため、フォトニック結晶で光回路を構成する場合に3次元フォトニック結晶のみでは回路を作り込むことが困難であり、2次元フォトニック結晶では閉じ込めが不十分になるという問題点を解決することができる。
請求項(抜粋):
第一の3次元フォトニック結晶、2次元フォトニック結晶、第二の3次元フォトニック結晶を積層した構造を有することを特徴とするフォトニック結晶構造。
IPC (5件):
G02B 6/12 ,  C23C 14/06 ,  G02B 6/13 ,  H01S 5/20 ,  H01S 5/343
FI (6件):
C23C 14/06 P ,  H01S 5/20 ,  H01S 5/343 ,  G02B 6/12 Z ,  G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 M
Fターム (19件):
2H047KA03 ,  2H047PA04 ,  2H047QA02 ,  2H047QA04 ,  4K029AA06 ,  4K029BA35 ,  4K029BA46 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA05 ,  5F073AA62 ,  5F073AA75 ,  5F073AB17 ,  5F073AB25 ,  5F073CA04 ,  5F073CA07 ,  5F073DA24 ,  5F073DA35

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