特許

J-GLOBAL ID：200903050383163423

基板洗浄装置

発明者： 谷脇 和磨
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-264139
公開番号（公開出願番号）：特開2003-071399
出願日： 2001年08月31日
公開日（公表日）： 2003年03月11日
要約：

【要約】【課題】紫外線照射による基板洗浄装置において、省スペース、低コスト型で、更に無機イオン汚染等カラーフィルター表面への品質上の弊害も与えず、かつ人体に有害となる排オゾンガスの一括処理する基板洗浄装置の提供にある。【解決手段】チャンバー4内に紫外線照射ランプ2とその下方にある紫外線照射窓3でなる紫外線照射装置30により、紫外線を照射して、被洗浄基板1の有機物を除去する基板洗浄装置100であって、紫外線照射窓3と被洗浄基板1の間に、酸素ガスまたはオゾンガスを供給するガス供給口8と、そのガスを回収するガス回収口9とを有し、ガス回収手段で回収された排オゾンガスを、前記紫外線照射ランプ2からの紫外線に暴露されるオゾン分解流路6を具備している基板洗浄装置100とするものである。

請求項（抜粋）：

不活性ガスが導入されているチャンバー内に紫外線照射ランプとその下方にある紫外線照射窓でなる紫外線照射装置により、搬送される被洗浄基板上に紫外線を照射して、該被洗浄基板の有機物を除去する基板洗浄装置において、前記紫外線照射窓と被洗浄基板の間に、酸素ガスまたはオゾンガスを含む気体を供給するガス供給手段と、該供給されたガスを回収するガス回収手段とを有し、該ガス回収手段で回収された排オゾンガスを前記紫外線照射ランプより照射された紫外線に暴露されるオゾン分解流路を具備していることを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (8件)：

B08B 7/00 ,  B08B 3/02 ,  B08B 5/00 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/13357 ,  H01L 21/304 645 ,  H01L 21/304

FI (8件)：

B08B 7/00 ,  B08B 3/02 C ,  B08B 5/00 Z ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/13357 ,  H01L 21/304 645 D ,  H01L 21/304 645 Z

Fターム (33件)：

2H088FA17 ,  2H088FA30 ,  2H088HA12 ,  2H088HA28 ,  2H088MA20 ,  2H090JC19 ,  2H090LA15 ,  2H090LA16 ,  2H091FA02Y ,  2H091FA41Z ,  2H091GA01 ,  2H091LA30 ,  3B116AA01 ,  3B116AB14 ,  3B116BB21 ,  3B116BB89 ,  3B116BB90 ,  3B116BC01 ,  3B116CD11 ,  3B116CD22 ,  3B116CD33 ,  3B201AA01 ,  3B201AB14 ,  3B201BB21 ,  3B201BB38 ,  3B201BB89 ,  3B201BB90 ,  3B201BB92 ,  3B201BB98 ,  3B201BC01 ,  3B201CD11 ,  3B201CD22 ,  3B201CD33