特許
J-GLOBAL ID：200903050391962149
電子ビーム描画データの合成方法及びその合成装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小西 淳美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-214153
公開番号（公開出願番号）：特開平10-041224
出願日： 1996年07月24日
公開日（公表日）： 1998年02月13日
要約：
【要約】【課題】 電子描画装置に用いられる描画データの合成において、複数パターンデータの重なりやデータの繰り返しにより、描画に要するステージ移動等により電子ビームパターン描画に長時間を要していた。【解決手段】 フォトマスクに描画されるべき複数のパターンデータとジョブデックからなる電子ビーム描画データのうち、重なり合ったパターンデータまたは/および隣り合ったパターンデータを抽出し、これらを単一データに合成する。
請求項（抜粋）：
フォトマスクに描画されるべき複数のパターンデータとジョブデックからなる電子ビーム描画データを入力し、該パターンデータの中で重なり合ったデータまたは/および隣り合ったデーターを合成して新たなパターンデータを作成するとともにジョブデックを修正して、新たな電子ビーム描画データを生成する工程であって、少なくとも、複数の該パターンデータと該ジョブデックのデータを入力して、フォトマスクイメージデータに変換する工程と、該フォトマスクイメージデータからパターンデータのデータを抽出する工程と、抽出されたデータを合成する工程と、合成されたデータを新たなパターンデータに変換する工程と、を有することを特徴とする電子ビーム描画データの合成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 541 J
, G03F 1/08 A
