特許
J-GLOBAL ID：200903050395599197
ウェハーの固定方法及び露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中川 周吉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-265807
公開番号（公開出願番号）：特開平11-111819
出願日： 1997年09月30日
公開日（公表日）： 1999年04月23日
要約：
【要約】【課題】本発明の目的は、半導体の露光工程におけるウェハーの固定方法、並びにこれを実行する露光装置において、ウェハーが異物により歪みにくく、曲部的な焦点位置ズレが生じにくく、また、さらにウェハーに撓みが生じる場合にこれを積極的に補正して、マスクパターン転写時の解像度を良好なものとすることができるウェハーの固定装置並びに露光装置を提案することにある。【解決手段】ウェハーWの周縁部のみを露光装置の露光台1に接触させ、該ウェハーWの周縁部を前記露光台1に固定するウェハーの固定方法及び露光装置を提案して上記課題を解決する。また、さらに前記ウェハーWの中央部と前記露光台1との間に圧力調整室4を設け、該気密室に正圧または負圧を加えて圧力調整することで、ウェハーWの中央部に生じた撓みを補正する固定方法及び露光装置を提案する。
請求項（抜粋）：
露光装置にウェハーを固定する方法であって、前記ウェハーの周縁部のみを前記露光装置の露光台に接触させ、該ウェハーの周縁部を前記露光台に固定することを特徴としたウェハーの固定方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/68 N
, H01L 21/30 503 C
