特許
J-GLOBAL ID:200903050401276532
シロキサン系分子膜、その製造方法及びその膜を用いた有機デバイス
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
北原 康廣
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-342110
公開番号(公開出願番号):特開2007-145984
出願日: 2005年11月28日
公開日(公表日): 2007年06月14日
要約:
【課題】非常に高い安定性を有し、且つ、高度に配列制御されたシロキサン系分子膜、該シロキサン系分子膜の製造方法及び該分子膜を用いた有機デバイスを提供すること。【解決手段】一般式;Si(A1)(A2)(A3)-B-Si(A4)(A5)(A6)(A1〜A6は水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基またはアルキル基であり、脱離反応性についてA1〜A3>A4〜A6の関係を満たす;Bは2価の有機基である)の有機化合物を用いて形成されてなり、膜表面にシロキサンネットワークを有することを特徴とするシロキサン系分子膜および該分子膜を有する有機デバイス。上記有機化合物のA1〜A3を有するシリル基と基板表面とを反応させ、単一単分子膜を形成する工程、未反応の有機化合物を非水系溶媒を用いて洗浄除去する工程、および単分子膜の膜表面側に存在する未反応のシリル基でシロキサンネットワークを形成させる工程により単分子膜を作製する。【選択図】図2
請求項(抜粋):
一般式(I);
IPC (10件):
C09D 183/04
, C07F 7/12
, H01L 21/312
, H01L 21/368
, H01L 51/30
, H01L 51/40
, H01L 29/786
, C09K 11/06
, C07F 7/18
, H01L 51/50
FI (14件):
C09D183/04
, C07F7/12 W
, H01L21/312 C
, H01L21/368 L
, H01L29/28 220D
, H01L29/28 250H
, H01L29/28 310D
, H01L29/78 618B
, H01L29/78 617T
, C09K11/06 680
, C07F7/18 W
, H05B33/14 B
, H05B33/22 B
, H05B33/22 D
Fターム (70件):
3K007AB03
, 3K007DB03
, 4H049VN01
, 4H049VP02
, 4H049VQ07
, 4H049VQ08
, 4H049VQ61
, 4H049VR20
, 4H049VR22
, 4H049VR24
, 4H049VR33
, 4H049VR40
, 4H049VR43
, 4H049VU24
, 4H049VW02
, 4J038DL161
, 4J038LA02
, 4J038NA21
, 4J038PB09
, 5F053AA03
, 5F053AA04
, 5F053AA06
, 5F053DD19
, 5F053LL05
, 5F053LL10
, 5F058AA10
, 5F058AC03
, 5F058AD05
, 5F058AF04
, 5F110AA01
, 5F110AA26
, 5F110CC03
, 5F110CC07
, 5F110CC10
, 5F110DD01
, 5F110DD02
, 5F110DD03
, 5F110DD04
, 5F110DD05
, 5F110DD13
, 5F110DD14
, 5F110EE02
, 5F110EE03
, 5F110EE04
, 5F110EE07
, 5F110EE14
, 5F110EE43
, 5F110EE44
, 5F110EE45
, 5F110FF01
, 5F110FF02
, 5F110FF03
, 5F110FF09
, 5F110FF27
, 5F110FF29
, 5F110GG02
, 5F110GG05
, 5F110GG12
, 5F110GG19
, 5F110GG25
, 5F110GG42
, 5F110HK02
, 5F110HK03
, 5F110HK04
, 5F110HK07
, 5F110HK21
, 5F110HK32
, 5F110HK33
, 5F110HK34
, 5F110HM12
引用特許:
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