特許

J-GLOBAL ID：200903050402102201

多層薄膜の非破壊定量分析方法

発明者： 武藤 朗子 ,  奥平 秀和 ,  中沢 正敏
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 中村 純之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-009927
公開番号（公開出願番号）：特開平6-222019
出願日： 1993年01月25日
公開日（公表日）： 1994年08月12日
要約：

【要約】【目的】数nm程度にまで薄膜化した多層薄膜の各層の組成を、非破壊で、かつ、精度良く計測できる定量分析方法を実現する。【構成】各層を構成する元素が既知である多層薄膜1,2,3において、単色X線5の照射によって上記各層から放出される光電子6,7,8のエネルギーを分析器11によって分析し、得られるスペクトルの強度を電子検出器12で測定し、各層の膜厚を求めると共に、各層に含まれる元素の組成比を決定する。

請求項（抜粋）：

基板上に形成された構成元素が既知の多層薄膜の各層からX線照射によって放出される光電子の強度を測定し、該測定値と上記各層の膜厚とから上記各層に含まれる元素の組成比を求めることを特徴とする多層薄膜の非破壊定量分析方法。