特許

J-GLOBAL ID：200903050418646813

弁の除染方法及び除染装置

発明者： 穴沢 和美 ,  長瀬 誠 ,  千葉 吉紀
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-077768
公開番号（公開出願番号）：特開2001-264490
出願日： 2000年03月15日
公開日（公表日）： 2001年09月26日
要約：

【要約】【課題】本発明の目的は、放射性核種によって汚染された弁の点検作業または修理作業において、除染費用を合理的に抑制しつつ、弁の点検作業または修理作業に従事する作業員の被曝を確実に低減することにある。【解決手段】除染範囲を、除染対象弁に加えて、それに接続された配管部品のうち弁端部から配管内径に20cmを加えた距離以上の領域にまで広げて、除染を実施する。

請求項（抜粋）：

放射性核種に汚染された弁を除染する方法であって、除染範囲を、除染対象弁と、該除染対象弁に接続された配管部品のうち弁端部からの距離LがL≧(配管内径+20cm)の条件を満たす領域にまで広げて、除染を実施することを特徴とする弁の除染方法。

IPC (5件)：

G21F 9/28 501 ,  G21F 9/28 521 ,  G21F 9/28 522 ,  G21F 9/28 525 ,  G21D 1/00

FI (5件)：

G21F 9/28 501 C ,  G21F 9/28 521 B ,  G21F 9/28 522 A ,  G21F 9/28 525 A ,  G21D 1/00 V