特許
J-GLOBAL ID：200903050433454190
偏光素子及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
磯村 雅俊 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-207166
公開番号（公開出願番号）：特開2001-074939
出願日： 2000年07月07日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
要約：
【要約】【課題】歩留まりが高く、量産性に優れ、優れた特性を有する偏光素子の製造方法を実現する。【解決手段】基板1上の同一面上に交互に2種類の誘電体膜領域2,3を有する回折格子型偏光素子を製造するため、基板1上に積層した複屈折性を有する誘電体膜材料2に、熱4を印加して複屈折性を消失させた領域3を形成する(方法?@)。また、熱を印加しながら上記金属酸化物誘電体膜材料2が斜め蒸着法により形成されることも可能である(方法?A)。また、熱4の印加と斜め蒸着を交互に行い、金属酸化物誘電体膜材料2を形成することも可能である(方法?B)。本発明では、全て真空プロセスにすることが可能で、誘電体の膜厚つまり格子の深さを任意に調整することができ、不純物が混入し難く、空隙や欠陥等が生じ難い。
請求項（抜粋）：
基板上の同一面上に交互に二種類の誘電体膜領域を有すことにより回折格子構造を形成し、上記二種類の誘電体膜領域のうち少なくとも一方の領域が複屈折性を有する誘電体膜材料である回折格子型偏光素子の製造方法であって、上記基板上に積層した複屈折性を有する誘電体膜材料に、予め定めた間隔置きに熱を印加し、複屈折性を消失させた領域を形成することにより、複屈折性と等方性の二種類の誘電体膜領域を交互に形成して回折格子構造を形成することを特徴とする回折格子型偏光素子の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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