特許

J-GLOBAL ID：200903050451222719

皮膜形成方法

発明者： 佐川 眞人 ,  永田 浩 ,  板谷 修
出願人/特許権者： インターメタリックス株式会社
代理人 (1件)： 平井 保 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-075248
公開番号（公開出願番号）：特開平6-264261
出願日： 1993年03月09日
公開日（公表日）： 1994年09月20日
要約：

【要約】【目的】 粉末、皮膜形成媒体及び部品に振動を加える皮膜形成方法において皮膜の膜厚均一度を高める。【構成】 接着性を有する層が少なくとも一部の表面に存在する被処理部品、融点が異なる2種以上の物質からなる粉末-但し、高融点粉末の少なくとも1種は形状が扁平である-、被処理部品よりも寸法が実質的に小さくかつ粉末よりは寸法が実質的に大きい皮膜形成媒体に容器内にて振動または撹拌を加えて被処理部品の表面に前記粉末を含む皮膜を形成し、その後皮膜を粉末のいずれかの融点以上ただし扁平粉末のいずれかの融点以下に加熱する。

請求項（抜粋）：

接着性を有する層が少なくとも一部の表面に存在する被処理部品、融点が異なる2種類以上の物質からなる粉末-但し、高融点粉末の少なくとも1種は形状が扁平である-、前記被処理部品よりも寸法が実質的に小さくかつ前記粉末よりは寸法が実質的に大きい皮膜形成媒体に容器内にて振動または攪拌を加えて前記被処理部品の表面に前記粉末を含む皮膜を形成し、その後前記皮膜を前記粉末のいずれかの融点以上ただし前記扁平粉末のいずれかの融点以下に加熱することを特徴とする皮膜形成方法。