特許
J-GLOBAL ID：200903050454041731
位相シフトマスクおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-258030
公開番号（公開出願番号）：特開平6-110193
出願日： 1992年09月28日
公開日（公表日）： 1994年04月22日
要約：
【要約】【目的】 露光時における、転写像の高精度化およびエッチング時における基板へのダメージの低減を可能とした位相シフトマスクおよびその製造方法を提供する。【構成】 遮光膜10と光透過部20の境界側面部において透明膜4の段差部13からなる位相シフタ11aが形成されている。また、遮光膜10は、エッチングレートの異なる第1の遮光膜2と第2の遮光膜3とにより構成されている。これにより、段差部13の厚さが遮光膜10から光透過部20にかけて徐々に膜厚が変化するために、光の位相差を連続的に変化させることが可能となる。また、石英基板1の表面にエッチングによるダメージを与えずにエッチングを行なうことができる。
請求項（抜粋）：
光を透過するマスク基板と、このマスク基板の主表面上に、所定の光透過部において前記マスク基板を露出するように形成された遮光膜と、前記遮光膜の上面、前記光透過部の前記マスク基板主表面上、および前記光透過部外縁の前記遮光膜側壁面全面にわたって連続的に形成された透明膜と、を備え、前記透明膜が前記光透過部の周縁において位相シフタとして機能するように、前記透明膜の厚さの分布が設定された、位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
