特許

J-GLOBAL ID：200903050456723945

プラズマ発生装置およびこれを用いた表面処理装置

発明者： 鶴巻 直哉
出願人/特許権者： 株式会社小松製作所
代理人 (1件)： 木村 高久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-123470
公開番号（公開出願番号）：特開平9-306695
出願日： 1996年05月17日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：

【要約】【課題】 長寿命でかつ高効率で信頼性の高い薄膜形成およびエッチングに適用することのできるプラズマ発生装置を提供することを目的とする。【解決手段】本発明の第1の特徴は、ガスを噴射するように構成されたノズル1の管壁に高周波誘導コイル5を配設してガスプラズマを生成するように構成されたプラズマ発生装置において、プラズマを生成するプラズマ生成部が、該ノズルの中心軸とコイルの中心軸とがほぼ垂直となるように配設せしめられていることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

内部を通過した反応性ガスを一端から噴射するように構成されたノズルの外壁に高周波誘導コイルを配設して前記ノズルを通過する反応性ガスをプラズマ励起しガスプラズマを生成するように構成されたプラズマ発生装置において、前記高周波誘導コイルが、該ノズルの中心軸と前記コイルの中心軸とがほぼ垂直となるように配設せしめられていることを特徴とするプラズマ発生装置。

IPC (5件)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (5件)：

H05H 1/46 A ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B