特許
J-GLOBAL ID：200903050460196054
パターン位置測定装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-176879
公開番号（公開出願番号）：特開平6-018220
出願日： 1992年07月03日
公開日（公表日）： 1994年01月25日
要約：
【要約】【目的】 基板の支持状態によって異なるパターン形成面の撓み形状に応じたパターンの位置を求めることができるパターン位置測定装置を提供する。【構成】 基板を複数位置でステージ15上に支持した際に生じる第1の撓み形状を求め、この第1の撓み形状に基づいて撓みのない状態でのパターン位置を求める。さらに、記憶手段20に記憶しておいた前記複数位置とは異なる位置で基板を支持した際に生じる第2の撓み形状に基づいて、撓みのない状態でのパターン位置を第2の撓み形状でのパターン位置に補正する。
請求項（抜粋）：
表面に精密パターンを形成した基板を前記基板の複数位置でステージ上に支持し、この支持状態によって生じた第1の撓み形状での前記パターンの位置を測定するパターン位置測定手段と、前記基板のパターン形成面の第1の撓み形状を検出する撓み形状検出手段と、前記撓み形状検出手段で検出した前記パターン形成面の第1の撓み形状に基づいて、前記パターンの位置を撓みのない状態でのパターンの位置に補正する第1補正手段と、を有するパターン位置測定装置において、前記複数位置とは異なる複数位置で前記基板を支持した際に生じる前記パターン形成面の第2の撓み形状を記憶する記憶手段と、前記記憶手段に記憶した第2の撓み形状に基づいて、前記第1補正手段で補正した撓みのない状態でのパターンの位置を、前記異なる複数位置で前記基板を支持した際の第2の撓み形状でのパターンの位置に補正する第2補正手段と、を有することを特徴とするパターン位置測定装置。
IPC (5件)：
G01B 11/00
, G01B 21/00
, G03F 9/00
, G06F 15/62 405
, H01L 21/027
