特許
J-GLOBAL ID：200903050476050378
フェノールホルムアルデヒド縮合体の分画およびそれから製造されるフォトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
江崎 光史 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-512856
公開番号（公開出願番号）：特表平11-512833
出願日： 1996年09月18日
公開日（公表日）： 1999年11月02日
要約：
【要約】フェノールホルムアルデヒド縮合生成物を分画することにより製造される低金属イオン含有量しか有していない水不溶性の水性アルカリ溶解性フィルム形成性ノボラック樹脂画分を製造する方法、そのようなノボラック樹脂を含有するフォトレジスト組成物を製造する方法およびそのようなフォトレジスト組成物を使用して半導体デバイスを製造する方法。
請求項（抜粋）：
低レベルの金属イオンしか含有しない水不溶性の水性アルカリ溶解性フィルム形成性ノボラック樹脂を製造する方法において、A)極性有機溶媒中の約10〜40重量%のアルカリ溶解性の水不溶性フィルム形成性ノボラック樹脂の溶液を調製し、B)1μm(マイクロメートル)未満のレイティングのフィルターを通してノボラック樹脂溶液を濾過し、C)アニオン交換樹脂を通してノボラック樹脂溶液を流し、D)カチオン交換樹脂を通してノボラック樹脂溶液を流し、E)20°Cから約35°Cの温度にノボラック樹脂溶液を調節し、F)約10〜約60重量%の脱イオン水を添加し、G)少なくとも約30分間ノボラック樹脂溶液/水混合物を撹拌し、H)少なくとも約5分間この混合物を静置し、I)少なくとも55重量%の水および極性有機溶媒を取り除き、J)約40%〜約65重量%の好適なフォトレジスト溶媒を添加し、K)実質的に全ての残余の水および極性有機溶媒を、減圧下に約90°C〜約130°Cの温度で、約50mm〜約120mmの圧力で留去し、L)残余のノボラック樹脂溶液を、約25°C〜約45°Cの温度に冷却し、M)必要であれば追加的なフォトレジスト溶媒を添加してノボラック樹脂溶液の固形分含有量を所望のレベルに調節し、N)1μm(マイクロメートル)未満のレイティングのフィルターを通してノボラック樹脂溶液を濾過することからなる上記方法。
IPC (5件)：
G03F 7/023 511
, C08G 8/00
, C08G 8/08
, C08L 61/06
, G03F 7/004 501
G03F 7/023 511
, C08G 8/00 F
, C08G 8/08
, C08L 61/06
, G03F 7/004 501
