特許
J-GLOBAL ID:200903050483367964
汚濁物質付着抑制材およびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
工業技術院名古屋工業技術研究所長
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-157541
公開番号(公開出願番号):特開2000-342602
出願日: 1999年06月04日
公開日(公表日): 2000年12月12日
要約:
【要約】【課題】 汚濁物質付着抑制材およびその製造方法を提供する。【解決手段】 基材と該基材表面に形成された汚濁物質付着抑制膜とからなる材料であって、該基材は高分子、セラミックス、金属などのいずれの材質においても、その表面は、50nm以上の凸凹差を有することを特徴とする汚濁物質付着抑制材、基材に予め50nm以上の凸凹差を有する表面を形成し、真空紫外光などにより、該基材表面を光洗浄した後に、フッ化炭素鎖や長鎖アルキル鎖などを有するシランカップリング剤を該基材表面に固定化することを特徴とする汚濁物質付着抑制材の製造方法。【効果】 基材の表面改質により、はっ水性が著しく向上し、汚濁物質の付着が著しく抑制される。
請求項(抜粋):
基材と該基材表面に形成された汚濁物質付着抑制膜とからなる材料であって、該基材は高分子、セラミックス、金属などのいずれの材質においても、その表面は、50nm以上の凸凹差を有することを特徴とする汚濁物質付着抑制材。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (6件):
4C059RR02
, 4C059RR17
, 4C059SS01
, 4C059SS03
, 4C059SS04
, 4C059SS10
引用特許:
審査官引用 (2件)
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特開昭58-169443
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特開昭62-213750
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