特許

J-GLOBAL ID：200903050498974603

1,3-ジオキソールの製造方法

発明者： ワルター、ナバリーニ ,  シモネッタ、フォンタナ
出願人/特許権者： アウシモント、ソチエタ、ペル、アツィオーニ
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-056905
公開番号（公開出願番号）：特開平6-087849
出願日： 1992年02月07日
公開日（公表日）： 1994年03月29日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】対応する4,5-ジハロジオキソランの脱ハロゲン化による1,3-ジオキソールの製造方法。【構成】(1)たとえば式C(OF)2X5X6のビス(フルオロオキシ)ペルフルオロアルカンと、式CX1X2=CX3X4(但しX2とX4とは実質的にトランス位置にある)のハロゲン化オレフィンとを反応させて式(II)のジオキソランを製し、(2)次いで該ジオキソランと脱ハロゲン剤(特に、Zn,Mg,Hg,等の金属)とを+30°C〜+130°Cで反応させることによる、式(I)の1,3-ジオキソールの製造方法。〔式中、X1,X3はFまたはH;X2,X4はClまたはBr;X5,X6はFまたはCF3である〕【効果】式(II)の化合物において、抜き取られる二つのハロゲン原子(即ち、X2とX4)がアンチ位置にある場合に、脱ハロゲン反応は高収率で進行する。

請求項（抜粋）：

式(式中、X1 およびX3 は、同一であるか、または異なるものであって、FまたはHであり、X5 およびX6 は、同一であるか、または異なるものであって、FまたはCF3である)のジオキソールの製造方法であって、a)式(式中、X2 およびX4 は、同一であるか、または異なるものであって、ClまたはBrであり、X1 、X3 、X5 およびX6 は上記と同じ意味を有する)のジオキソランを、ハロゲンX2 およびX4 が実質的にトランス位置にある試薬から出発するか、あるいは得られるジオキソラン中のアンチ/シン異性体比が出発試薬のトランス/シス異性体比よりも高くなる様な方法により製造し、b)前記ジオキソランをすくなくとも一種の脱ハロゲン化剤と、+30°C〜+130°Cの温度で反応させ、c)工程b)の反応生成物からジオキソール(I)を分離する、ことを特徴とする方法。

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特表昭59-500769
  
• 特表平4-503816