特許
J-GLOBAL ID:200903050506022714
基板外観検査装置
発明者:
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
大胡 典夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-238754
公開番号(公開出願番号):特開2000-066164
出願日: 1998年08月25日
公開日(公表日): 2000年03月03日
要約:
【要約】【課題】 TFT形成基板の目視による不良検査精度を向上して製造歩留まりの向上を図り又、不良の解析を容易且つ短時間とし、迅速に対処する。【解決手段】 揺動ステージ12に支持される基板11を、反射照明装置17による反射光及び透過照明装置18による透過光を用いて観察し、不良を検知する。又反射照明装置17のみによる基板11表面側からの反射光を観察し、不良が表面側か裏面側かを切り分ける。
請求項(抜粋):
透明基板上に複数の薄膜トランジスタを形成してなる基板の外観を目視検査する基板外観検査装置において、前記基板を揺動可能に支持する揺動ステージと、この揺動ステージ上の前記基板表面を照射する反射照明手段と、前記揺動ステージ上の前記基板を裏面から透過する透過照明手段とを具備する事を特徴とする基板外観検査装置。
IPC (3件):
G02F 1/13 101
, G01N 21/88
, G09F 9/00 352
FI (3件):
G02F 1/13 101
, G01N 21/88 F
, G09F 9/00 352
Fターム (22件):
2G051AA73
, 2G051AA90
, 2G051AB01
, 2G051AB02
, 2G051AC22
, 2G051BA01
, 2G051BA20
, 2G051CA11
, 2G051CB01
, 2G051CB02
, 2G051DA07
, 2G051DA08
, 2G051DA13
, 2G051DA17
, 2H088FA13
, 2H088HA01
, 2H088MA20
, 5G435AA17
, 5G435BB12
, 5G435KK05
, 5G435KK09
, 5G435KK10
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