特許
J-GLOBAL ID：200903050525170562
ブランクスとその製法およびブランクスを加工してフォトマスクを製造する方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-052133
公開番号（公開出願番号）：特開平6-266097
出願日： 1993年03月12日
公開日（公表日）： 1994年09月22日
要約：
【要約】【目的】 精度の高いパターンを形成する。【構成】 基板上に形成された金属膜3の一部3aが露出するように上記金属膜3上に光反射防止膜8およびレジスト膜9を形成し、上記レジスト膜9の電子線等による露光時に上記露出部3aを介し上記金属膜9をアース電位に接続するようにしたものである。
請求項（抜粋）：
透光性の基板と、上記基板の表面に形成された光反射防止膜と、上記光反射防止膜上に形成された金属膜と、上記金属膜上に上記金属膜の一部が露出するように形成されたレジスト膜とを備えていることを特徴とするブランクス。
IPC (2件)：
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