特許
J-GLOBAL ID:200903050530965301

ベーン式回転機械

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 熊谷 隆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-254393
公開番号(公開出願番号):特開2000-087873
出願日: 1998年09月08日
公開日(公表日): 2000年03月28日
要約:
【要約】【課題】 たとえ水などの低粘度流体を作動流体として使用しても、効率や耐久性において支障をきたすことのないベーン式回転機械を提供する。またロータスリットの加工性が良く、ベーンとのクリアランス管理も容易に行なえるベーン式回転機械を提供する。【解決手段】 ベーン60を取り付けたロータ15をカムケーシング10内に収納してなるベーン式回転機械である。ロータ15には、低摩擦摩耗性材料(例えばプラスチック又はセラミック)製であってベーン60を収納するロータスリット71を設けてなるロータスリット部材70が取り付けられる。
請求項(抜粋):
ベーンを取り付けたロータをカムケーシング内に収納してなるベーン式回転機械において、前記ロータには、低摩擦摩耗性材料製であってベーンを収納するロータスリットを設けてなるロータスリット部材が取り付けられていることを特徴とするベーン式回転機械。
IPC (2件):
F04C 2/344 331 ,  F04C 2/344
FI (2件):
F04C 2/344 331 B ,  F04C 2/344 331 D
Fターム (9件):
3H040AA02 ,  3H040BB01 ,  3H040BB11 ,  3H040CC14 ,  3H040CC16 ,  3H040DD06 ,  3H040DD08 ,  3H040DD21 ,  3H040DD36
引用特許:
審査官引用 (13件)
  • 特公平4-051677
  • 特公平4-051677
  • ポンプ
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-319124   出願人:京セラ株式会社
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