特許
J-GLOBAL ID：200903050547584379
電子線露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
開口 宗昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-131539
公開番号（公開出願番号）：特開平10-321507
出願日： 1997年05月22日
公開日（公表日）： 1998年12月04日
要約：
【要約】【課題】 本発明の課題は、ステージ連続移動方式を用いて電子線パターン描画する際に、パターン描画精度の劣化がなく、かつ、スループットの低下がない電子線露光装置を提供することである。【解決手段】 露光前に描画パターンの粗密度を判定し、描画する際にチップ内を所定のビーム偏向幅に分割する。この場合、分割するビーム偏向幅の大きさを決定し、偏向領域に対応する偏向幅を記憶装置に格納する。その後、偏向幅を記憶装置より読み出し、パターン描画を行う。
請求項（抜粋）：
電子線の最大偏向幅以下の任意の幅を有する複数の異なる大きさの偏向領域で被露光物を分割し、電子線により所望の図形パターンを被露光物に描画することを特徴とする電子線露光方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 504
, H01J 37/305
H01L 21/30 541 J
, G03F 7/20 504
, H01J 37/305 B
