特許

J-GLOBAL ID：200903050576389348

クロムフリー塗布型酸性組成物による金属表面処理方法

発明者： ショーン イー.ドラン
出願人/特許権者： 日本パーカライジング株式会社
代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-229797
公開番号（公開出願番号）：特開平5-195244
出願日： 1992年08月28日
公開日（公表日）： 1993年08月03日
要約：

【要約】【目的】 慣用のクロム酸塩化成被覆と少なくとも同等な保護品質を有するクロムフリー化成被覆を金属表面に形成でき、特に亜鉛メッキ鋼板にそのまま塗布乾燥できる水性酸性液状組成物による金属表面処理方法を提供する。【構成】 該組成物は、(A)陰イオン成分の各々が、(i)少なくとも4個のフッ素原子と、(ii)チタン、ジルコニウム、ハフニウム、ケイ素、及びホウ素、からなる群から選ばれる少なくとも1個の元素と、任意成分として(iii)1個以上の酸素原子とを含む前記陰イオン成分と、(B)コバルト、マグネシウム、マンガン、亜鉛、ニッケル、スズ、ジルコニウム、鉄、アルミニウム及び銅からなる群から選ばれる元素の陽イオン成分であって、該陽イオン全数が、成分(A)の陰イオン全数の1/3以上である陽イオン成分と、(C)前記組成物のpHを約0.5乃至約5.0の範囲内に保つに十分な量の遊離酸と、任意成分として、(D)直接乾燥によって有機樹脂薄層を形成する組成物とを含む組成物である。

請求項（抜粋）：

金属の表面に保護皮膜を形成させる方法において、(I)前記表面を水性酸性液状組成物の層で被覆する工程であって、前記組成物が水と、(A)陰イオン成分の各々が、(i)少なくとも4個のフッ素原子と、(ii)チタン、ジルコニウム、ハフニウム、ケイ素、及びホウ素、からなる群から選ばれる少なくとも1個の元素と、任意成分として、(iii)1個以上の酸素原子と、からなる陰イオン成分と、(B)コバルト、マグネシウム、マンガン、亜鉛、ニッケル、スズ、ジルコニウム、鉄、アルミニウム及び銅からなる群から選ばれる陽イオン成分と、(C)前記組成物のpHを約0.5乃至約5.0の範囲内に保つに十分な量の遊離酸と、任意成分として、(D)直接乾燥によって有機薄層を形成する組成物と、を含み、成分(B)の陽イオン数が成分(A)の陰イオン数の1/3以上となる液状組成物である工程と、(II)水性酸性液状組成物層を、中間濯ぎを行わないで、そのまま乾燥する工程と、からなることを特徴とする金属表面処理方法。

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特表昭61-502063
  
• 特開昭59-064781
  
• 特開昭52-131937
  
• 特公昭48-024618