特許
J-GLOBAL ID：200903050591809060
水素貯蔵・供給システムおよび水素貯蔵・供給装置ならびに水素貯蔵・供給用触媒
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
渡辺 秀治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-375529
公開番号（公開出願番号）：特開2002-184436
出願日： 2000年12月11日
公開日（公表日）： 2002年06月28日
要約：
【要約】【課題】 水素の貯蔵または供給に利用する水素付加反応あるいは脱水素反応の反応効率を高めること。【解決手段】 水素貯蔵体を入れた第一液槽79または水素供給体を入れた第二液槽80と、水素貯蔵体の水素付加反応または水素供給体の脱水素反応の内少なくともいずれか1つの水素反応を行うと共に、水素反応に利用する触媒88とを備えた反応炉74と、水素貯蔵体または上記水素供給体を上記水素反応前に加熱するヒータ81,82と、反応炉74で生成した水素貯蔵体または水素供給体を冷却する冷却槽75とを備えた水素貯蔵・供給装置70とすること。
請求項（抜粋）：
水素と反応して、その水素を貯蔵する芳香族化合物から成る水素貯蔵体と、水素を放出して上記芳香族化合物に変化する水素供給体との間における水素付加反応および脱水素反応を利用して水素の貯蔵および供給を行う水素貯蔵・供給システムであって、上記水素貯蔵体または上記水素供給体を、上記水素付加反応の前または上記脱水素反応の前に加熱するヒータを備えた水素反応装置と、上記水素反応装置内における水素付加反応のために水素を供給する水素供給装置と、上記水素反応装置内における脱水素反応によって生成された水素を利用して発電する発電装置と、を備えることを特徴とする水素貯蔵・供給システム。
IPC (3件)：
H01M 8/04
, C01B 3/00
, F17C 11/00
H01M 8/04 J
, C01B 3/00 A
, F17C 11/00 C
3E072EA10
, 4G040AA12
, 4G040AA31
, 4G140AA12
, 4G140AA31
, 5H027AA02
, 5H027BA13
