特許

J-GLOBAL ID：200903050593851551

薄い酸化物コーティングの製造装置

発明者： キンデル ヘルムト
出願人/特許権者： テファ デュンシヒトテヒニク ゲーエムベーハー
代理人 (1件)： 藤村 元彦 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-520925
公開番号（公開出願番号）：特表2000-503351
出願日： 1996年11月01日
公開日（公表日）： 2000年03月21日
要約：

【要約】本発明は、開口(16)のある酸素チャンバ(14)と、前記開口をカバーする回転基板ホルダ(15)とを含む真空チャンバからなる酸化薄膜を作成するように設計された設備に関する。基板ホルダ(15)を回転自在に組み立てるために、前記基板ホルダ(15)の周縁部と係合する回転保持装置(22)が設けられている。

請求項（抜粋）：

開口を有する酸素チャンバと、前記開口と重複する回転式基板ホルダとを内部に有する真空チャンバを有する薄い酸化物コーティングの製造装置であって、基板ホルダ(15)の回転構成に対し、基板ホルダ(15)の周縁部(24)と係合する回転マウント(22)が設けられていることを特徴とする薄い酸化物コーティングの製造装置。

IPC (2件)：

C23C 14/24 ,  H01L 39/24 ZAA

FI (2件)：

C23C 14/24 J ,  H01L 39/24 ZAA K

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平2-019455
  
• 特開昭61-133068
  
• 特開昭64-051683
  
• 特開平1-192720