特許
J-GLOBAL ID:200903050620233776

偏光子およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 後藤 洋介 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-030755
公開番号(公開出願番号):特開平6-273621
出願日: 1993年02月19日
公開日(公表日): 1994年09月30日
要約:
【要約】【目的】 引き伸し工程を行わず、高透磁率、高消光比を持ち、小型化および薄膜化が可能である安価な偏光子を提供する。【構成】 偏光子は透明基板1上に物理蒸着方法により誘電体層と金属層とを交互に形成してなり、前記金属層は前記透明基板1の蒸着面に対して所定範囲の傾斜角度で金属粒子を入射させて形成する。前記透明基板1は蒸着面に平行に形成された複数の溝を有するようにしてもよい。
請求項(抜粋):
透明基板上に物理的蒸着方法により誘電体層と金属層とを交互に形成してなる偏光子において、前記金属層は前記透明基板の蒸着面に対して所定範囲の傾斜角度で金属粒子を入射させることにより形成してなることを特徴とする偏光子。

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