特許

J-GLOBAL ID：200903050631078330

ガス製造装置およびガス製造方法

発明者： 仲谷 潤之助
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 工藤 実 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-038691
公開番号（公開出願番号）：特開2002-241774
出願日： 2001年02月15日
公開日（公表日）： 2002年08月28日
要約：

【要約】【課題】有用ガスを製造する際の反応を進行させるために投入されるエネルギーを低減する。【解決手段】気体反応物質の流路2を形成する反応塔1と、流路に配置される固体触媒4と、第1電極3と、第1電極3の対極である第2電極5とを含み、第1電極3は、第2電極5とともに固体触媒4の表面近傍に低温プラズマを発生させ、低温プラズマは、気体反応物質を励起して生成物質を生成する。固体触媒は、プラズマを使用しないで生成物質を生成するときに使用される固体触媒と同様の物質を使用する。第1電極3は、反応塔1の内側の壁に配置され、第2電極5は、棒状であり流路2の中央に配置され、固体触媒4は第1電極3に被覆されている。

請求項（抜粋）：

気体反応物質の流路を形成する反応塔と、前記流路に配置される触媒と、第1電極と、第2電極とを含み、前記第1電極と前記第2電極との間に印加される電圧に基づいて前記触媒の表面近傍に発生する低温プラズマは、前記気体反応物質を励起して生成物質を生成するガス製造装置。

IPC (6件)：

C10L 3/06 ,  C01B 3/48 ,  C01C 1/08 ,  C10G 2/00 ,  C10G 32/02 ,  H01M 8/06

FI (6件)：

C01B 3/48 ,  C01C 1/08 ,  C10G 2/00 ,  C10G 32/02 A ,  H01M 8/06 R ,  C10L 3/00 A

Fターム (10件)：

4G040EA09 ,  4G040EB32 ,  4G040EB41 ,  4G140EA09 ,  4G140EB32 ,  4G140EB41 ,  4H029CA00 ,  4H029DA00 ,  5H027BA01 ,  5H027BA16