特許

J-GLOBAL ID：200903050642396555

現像処理方法及び現像処理装置

発明者： 小杉 仁 ,  京田 秀治
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 金本 哲男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-123857
公開番号（公開出願番号）：特開2001-307992
出願日： 2000年04月25日
公開日（公表日）： 2001年11月02日
要約：

【要約】【課題】 現像液の適切な供給条件への修正をより早く,自動的に行う。【解決手段】 現像液供給ノズル70が所定の速度でウェハW上を移動しながら,ウェハW上に現像液を供給することによって,ウェハW表面に現像液の液膜が形成される。この液膜の液面に発生し,処理上好ましくない波の振幅をレーザ変位計90によって測定する。主制御装置92において,その測定値と予め設定されている許容範囲とを比較し,この測定値が上限許容値よりも大きい場合には,前記現像液供給ノズル70の移動速度の設定値を小さくし,前記測定値が予め設定されている下限許容値よりも小さい場合には,前記移動速度の設定値を大きくする。その結果,次に処理されるウェハW上に供給される現像液の液面の波の振幅が抑制され,より適切な供給条件にすばやく修正される。

請求項（抜粋）：

基板に現像液を供給する現像液供給手段を,前記現像液を供給しながら少なくとも前記基板の一端から他端まで所定の速度で移動させることによって,前記基板全面に現像液を供給して現像処理する現像処理方法であって,前記現像液供給後に,前記基板に供給された現像液の液面の波の振幅を測定する工程と,その測定値に基づいて,前記現像液供給手段の前記所定速度を変更する工程とを有することを特徴とする,現像処理方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/26 501 ,  G03F 7/30 502

FI (3件)：

G03F 7/26 501 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/30 569 C

Fターム (9件)：

2H096AA25 ,  2H096GA30 ,  5F046CD01 ,  5F046JA22 ,  5F046LA03 ,  5F046LA04 ,  5F046LA05 ,  5F046LA08 ,  5F046LA18