特許
J-GLOBAL ID：200903050643187852
露光装置とアライメント精度測定方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-233431
公開番号（公開出願番号）：特開平6-084752
出願日： 1992年09月01日
公開日（公表日）： 1994年03月25日
要約：
【要約】【目的】 アライメントエラー量のフィードバックの時間が短縮され、露光装置を含むラインの自動化を図る。【構成】 レティクル3のパターンを縮小投影レンズ4を用いてレジスト膜5に転写し、次に半導体基板上に形成されたアライメント精度測定用マーク7の位置をHe-Neレーザー光12の干渉の光強度から求める。半導体基板に形成されたパターンに対するアライメントエラーを算出器11から求め、露光装置にフィードバックする。
請求項（抜粋）：
縮小投影レンズを介して光源から放出された露光光と、前記露光光と一部同じ光路を通るHe-Neレーザー光と、半導体基板に形成された第1のマークに前記He-Neレーザー光が照射され、前記露光光が前記半導体基板上に形成されたレジスト膜に第2のマークに照射され、前記He-Neレーザー光と前記露光光とで測定されたそれぞれの前記マークの位置からアライメントエラーを算出し、フィードバックされることを特徴とする露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00
H01L 21/30 311 M
, H01L 21/30 301 G
