特許
J-GLOBAL ID：200903050643874841
レーザー照射によるマーク形成方法および当該方法用エンボスホイル
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柳田 征史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-273891
公開番号（公開出願番号）：特開平5-305763
出願日： 1992年10月13日
公開日（公表日）： 1993年11月19日
要約：
【要約】【目的】 転写技術を用いて最外層の着色ラッカー層を支持体から転写塗布し、着色層の厚みを均等にすることによりレーザー彫刻時の線幅、長さ等のずれの発生を防ぐ。【構成】 支持体1の表面に分離層2、任意の保護ラッカー層3、第1着色ラッカー層4、第2着色ラッカー層5、接着層6を順次積層してエンボスホイルを生成する。前記第1着色ラッカー層4と第2着色ラッカー層5は互いに異なる色で着色されており、少なくとも前記第1着色ラッカー層4は熱エンボスホイルで転写塗布され均等な厚みを有している。前記エンボスホイルをマーク形成用基板7に接着して剥離層9のみを基板上に配設する。不図示のレーザー光を照射することにより前記保護ラッカー層3と第1着色ラッカー層4を所望の形状に除去され除去部分直下の第2ラッカー層5が露出しマークが形成される。
請求項（抜粋）：
互いに色が異なる少なくとも2層のラッカー層を外部から物品表面側へと順次第1着色ラッカー層、第2着色ラッカー層と積層形成し、少なくとも最外層の一部をレーザー照射で除去して当該部位直下の前記第2層を露出させてマークを形成する方法において、少なくとも前記最外着色ラッカー層、すなわち前記第1着色ラッカー層を転写操作によって支持体から物品表面へ転写することを特徴とするマーク形成方法。
引用特許：
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