特許

J-GLOBAL ID：200903050645884216

レジスト材料及び使用法

発明者： ハートラー,ウオルター・レイモンド ,  ソガ,ドツトセビ・ヤオ ,  テイラー,ゲイリー・ニユートン
出願人/特許権者： イー・アイ・デユポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー ,  アメリカン・テレフオン・アンド・テレグラフ・カンパニー
代理人 (1件)： 小田島 平吉 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-507745
公開番号（公開出願番号）：特表平9-507304
出願日： 1991年03月28日
公開日（公表日）： 1997年07月22日
要約：

【要約】デバイス及びマスク製造に用いるレジストのパターニングにおいて、特殊な組成物を用いて優れた分解能及び感度が得られる。特にこの組成物は、酸不安定α-アルコキシアルキルカルボン酸エステル部分の繰り返し側鎖を持つポリマーを、UV-可視、遠紫外、電子ビーム及びX-線などの化学線により活性化される酸発生剤と共に含む。

請求項（抜粋）：

1)ポリマー主鎖及び該主鎖に直接又は間接的に結合した側鎖を持ち、該側鎖が次式又は[式中: nは、0-4であり; R1は、水素、低級アルキルであり; R2は、低級アルキルであり; R3及びR4は、独立して水素又は低級アルキルであり、低級アルキルの定義がR1とR2又はR1とR3又はR4のどちらか、あるいはR2とR3又はR4のどちらかの結合による5-,6-又は7-員環の形成を含む]で表される組成物から成る群より選んだポリマー、及び(2)放射線照射により酸を形成する材料から成る材料。

IPC (7件)：

G03F 7/039 ,  C08L 33/06 LHV ,  C08L 33/14 LHY ,  C08L 53/00 LLW ,  C08L101/08 LTB ,  C08F220/18 MMC ,  C08F220/28

FI (7件)：

G03F 7/039 ,  C08L 33/06 LHV ,  C08L 33/14 LHY ,  C08L 53/00 LLW ,  C08L101/08 LTB ,  C08F220/18 MMC ,  C08F220/28

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-172301
  
• 特開平3-289655
  
• 特開平3-288153