特許

J-GLOBAL ID：200903050651468801

成膜装置

発明者： 福永 由紀夫 ,  上山 浩幸 ,  斉藤 真佐雄 ,  村上 武司
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所
代理人 (1件)： 渡邉 勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-221101
公開番号（公開出願番号）：特開2000-038677
出願日： 1998年07月21日
公開日（公表日）： 2000年02月08日
要約：

【要約】【課題】 比較的高温に制御されるガス供給ヘッドの取り付け部のシールを、安価でかつ作業性良く行なうことができるようにした成膜装置を提供する。【解決手段】 チャンバ本体22と、該チャンバ本体の頂部に取付部52を介して取り付けられたガス供給ヘッド28とを備え、前記ガス供給ヘッドのヘッド本体と前記取付部の間には、全周に渡る薄肉状の温度遷移壁54が設けられている。

請求項（抜粋）：

チャンバ本体と、該チャンバ本体の頂部に取付部を介して取り付けられたガス供給ヘッドとを備え、前記ガス供給ヘッドのヘッド本体と前記取付部の間には、全周に渡る薄肉状の温度遷移壁が設けられていることを特徴とする成膜装置。

IPC (3件)：

C23C 16/455 ,  H01L 21/31 ,  C23C 16/40

FI (3件)：

C23C 16/44 D ,  H01L 21/31 B ,  C23C 16/40

Fターム (11件)：

4K030BA42 ,  4K030BA46 ,  4K030EA05 ,  4K030EA06 ,  4K030KA10 ,  5F045BB08 ,  5F045DP03 ,  5F045EB10 ,  5F045EE01 ,  5F045EF05 ,  5F045EK10