特許
J-GLOBAL ID：200903050653012880
投影露光装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-307749
公開番号（公開出願番号）：特開平7-161613
出願日： 1993年12月08日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：
【要約】【目的】 露光時には必要に応じて投影光学系の瞳面付近に瞳フィルタを配置して露光を行えると共に、投影光学系を介して位置検出等を行うアライメント系等には悪影響を与えないようにする。【構成】 コンタクトホールパターンが形成されたレチクル16のパターンをウエハ8上に露光する際には、投影光学系5の瞳面付近に瞳フィルタ43を設置する。TTL方式のアライメント系28X,28Yからのレーザビームを投影光学系5を介してウエハ8上に照射して、ウエハ8上のウエハマークWMX,WMYの位置検出を行う際には、投影光学系5の瞳面付近から瞳フィルタ43を退避させておく。
請求項（抜粋）：
転写用のパターンが形成されたマスクを照明する照明光学系と、瞳面付近に瞳フィルタが設置され前記マスクのパターンの像を感光性の基板上に結像投影する投影光学系と、を有する投影露光装置において、前記投影光学系を介して前記基板上に位置検出用の光を照射することにより、前記基板上の位置合わせ用のマークの位置検出を行うアライメント系と、前記投影光学系の瞳面付近に設置された瞳フィルタの退避を行う退避手段と、を設け、前記アライメント系により前記基板上の位置合わせ用のマークの位置検出を行う際に、前記退避手段を介して前記投影光学系の瞳面付近から前記瞳フィルタを退避させるようにしたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
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