特許

J-GLOBAL ID：200903050662099247

投影露光装置

発明者： 伊東 昌昭 ,  老泉 博昭 ,  武田 英次
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 薄田 利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-285623
公開番号（公開出願番号）：特開平6-140303
出願日： 1992年10月23日
公開日（公表日）： 1994年05月20日
要約：

【要約】【目的】露光強度の低下を避けながら、マスク寿命が長いX線投影露光装置を提供する。【構成】反射型マスク2のパターンを、反射鏡3、4からなる結像光学系により基板5に転写するX線投影露光装置において、反射型マスク2の反射面6が反射鏡3、4の反射面7を構成する多層膜より耐熱性のよい第1の多層膜で形成され、反射鏡3、4の反射面7が第1の多層膜より反射率の高い第2の多層膜で構成される。【効果】反射率と耐熱性の点から最適なX線投影露光装置が構成され、X線投影露光装置のコスト低減の効果が大きい。

請求項（抜粋）：

X線又は真空紫外線で照明された反射型マスク上のパターンを、反射鏡で構成される結像光学系により基板に転写する投影露光装置において、上記反射型マスクの反射面が上記反射鏡の反射面を形成する物質より耐熱性のよい第1の物質で形成され、上記反射鏡の反射面を形成する物質が上記第1の物質物質より反射率の高い第2の物質で形成されたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 503

FI (2件)：

H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 331 A