特許
J-GLOBAL ID:200903050666903148

組成変調軟磁性膜およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小鍜治 明 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-322933
公開番号(公開出願番号):特開平6-176926
出願日: 1992年12月02日
公開日(公表日): 1994年06月24日
要約:
【要約】【目的】 本発明は高性能薄膜磁気ヘッドコア材用の軟磁性積層膜およびその製造方法を提供することを目的とする。【構成】 成膜時の電流方向を、メッキ進行方向とそれに対して逆方向とに変化させ、各々組成の異なるメッキ成長層と逆電流による再溶解の影響層からなる軟磁性積層膜を得、磁区構造の制御を可能にする。
請求項(抜粋):
電気メッキ法で作製された軟磁性薄膜であって、成膜時の電流方向をメッキ進行方向と、それに対し逆方向である溶解方向に交互に繰り返すことにより、メッキ成長層と逆電流による影響層が各々の層で膜組成が異なるように積層させたことを特徴とする軟磁性積層膜。
IPC (5件):
H01F 10/14 ,  C22C 38/00 303 ,  G11B 5/147 ,  G11B 5/31 ,  H01F 41/26
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開昭48-053296
  • 特公昭36-006729

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