特許

J-GLOBAL ID：200903050671087251

シロキサンポリマーを含む反射防止膜組成物

発明者： ツァン・ルチ ,  ニーザー・マーク・オー ,  キム・ウーキュ ,  アブダラ・デイヴィッド・ジェイ ,  ホウリハン・フランシス ,  ルー・ピン-フン ,  ツァン・ホン
出願人/特許権者： エイゼット・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・コーポレイション
代理人 (3件)： 江崎 光史 ,  奥村 義道 ,  鍛冶澤 實
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-515988
公開番号（公開出願番号）：特表2009-541788
出願日： 2007年06月20日
公開日（公表日）： 2009年11月26日
要約：

本発明は、フォトレジスト用の下層を形成するための、酸発生剤及び新規シロキサンポリマーを含む新規反射防止膜組成物であって、前記シロキサンポリマーが、少なくとも一種の吸光性発色団及び次の構造(1)[式中、mは0または1であり、W及びW’は、独立して、環状エーテルをポリマーのケイ素に連結する原子価結合または接続基であり、そしてLは、水素、W’及びWから選択されるか、あるいはL及びW’は、環状エーテルをポリマーのケイ素に連結する環状脂肪族連結基を一緒になって構成する]で表される少なくとも一種の自己架橋性官能基を含む、前記反射防止膜組成物に関する。また本発明は、前記新規反射防止膜組成物の上にコーティングされたフォトレジストに像を形成する方法にも関し、良好なリソグラフィの結果を供する。更に本発明は、少なくとも一種の吸光性発色団及び構造(1)の少なくとも一種の自己架橋性官能基を含む、新規のシロキサンポリマーにも関する。

請求項（抜粋）：

酸発生剤及びシロキサンポリマーを含む、フォトレジスト用反射防止膜組成物であって、前記シロキサンポリマーが、少なくとも一種の吸光性発色団及び次の構造(1)で表される少なくとも一種の自己架橋性官能基を含む、前記反射防止膜組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/11 ,  C08G 77/14 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/38 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F7/11 503 ,  C08G77/14 ,  G03F7/004 507 ,  G03F7/38 501 ,  H01L21/30 574

Fターム (47件)：

2H096AA25 ,  2H096BA09 ,  2H096CA06 ,  2H096DA10 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  2H096EA23 ,  2H096GA08 ,  2H096HA23 ,  2H096JA02 ,  2H125AE12N ,  2H125AF12N ,  2H125AF26N ,  2H125AF27N ,  2H125AF36N ,  2H125AF45N ,  2H125AN38N ,  2H125AN39N ,  2H125BA01N ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125DA22 ,  4J246AA03 ,  4J246BA02X ,  4J246BA020 ,  4J246BA12X ,  4J246BA120 ,  4J246BB02X ,  4J246BB020 ,  4J246BB022 ,  4J246CA40X ,  4J246CA400 ,  4J246CA42X ,  4J246CA420 ,  4J246CA67X ,  4J246CA670 ,  4J246CA69X ,  4J246CA690 ,  4J246FA021 ,  4J246FA131 ,  4J246FA461 ,  4J246FB271 ,  4J246GB03 ,  4J246HA15 ,  5F046PA03 ,  5F046PA07