特許

J-GLOBAL ID：200903050673816021

蛍光X線分析装置および方法

発明者： 早川 慎二郎 ,  後藤 俊治 ,  庄司 孝 ,  山田 栄司
出願人/特許権者： 理学電機工業株式会社 ,  理化学研究所
代理人 (1件)： 杉本 修司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-208866
公開番号（公開出願番号）：特開平11-051883
出願日： 1997年08月04日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：

【要約】【課題】 簡単な構成で、高精度、高感度の測定ができる蛍光X線分析装置および方法を提供する。【解決手段】 1次X線3が照射される試料1が固定される試料台2と、格子面間隔の相異なる複数の分光素子6と、前記分光素子6を試料1に対し所定の位置に選択的に位置させて、試料1から発生した蛍光X線5を分光させる選択手段9と、前記所定の位置に対し固定され、前記分光された蛍光X線7の強度分布を測定する位置分解能検出手段8とを備える。

請求項（抜粋）：

1次X線が照射される試料が固定される試料台と、格子面間隔の相異なる複数の分光素子と、前記分光素子を試料に対し所定の位置に選択的に位置させて、試料から発生した蛍光X線を分光させる選択手段と、前記所定の位置に対し固定され、前記分光された蛍光X線の強度分布を測定する位置分解能検出手段とを備えた蛍光X線分析装置。