特許
J-GLOBAL ID：200903050679896728

光学薄膜の製造方法及び光学薄膜

発明者：
中嶋 孝治

中嶋 孝治 について


出願人/特許権者：
コニカ株式会社

コニカ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-094403
公開番号（公開出願番号）：特開2003-285343
出願日： 2002年03月29日
公開日（公表日）： 2003年10月07日
要約：
【要約】【課題】 巾手の膜厚分布に優れ、筋故障のない均一な光学薄膜、特に巾手の反射スペクトルが均一な反射防止膜の製造方法を提供する。【解決手段】 支持体上にダイを用いて塗布乾燥して得られる光学薄膜の製造方法において、ダイに保温機能を有し、ダイ保温温度とコーター室温度の差を-2°C〜+2°Cとすることを特徴とする光学薄膜及び反射防止膜の製造方法。
請求項（抜粋）：
支持体上にダイを用いて塗布乾燥して得られる光学薄膜の製造方法において、ダイに保温機能を有し、ダイ保温温度とコーター室温度の差を-2°C〜+2°Cとすることを特徴とする光学薄膜の製造方法。
IPC (5件)：
B29C 41/24 ,  B29C 41/38 ,  B29C 41/46 ,  G02B 1/11 ,  B29L 7:00
FI (5件)：
B29C 41/24 ,  B29C 41/38 ,  B29C 41/46 ,  B29L 7:00 ,  G02B 1/10 A
Fターム (31件)：
2K009AA06 ,  2K009BB24 ,  2K009BB28 ,  2K009CC02 ,  2K009CC09 ,  2K009CC14 ,  2K009CC26 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  2K009DD05 ,  2K009DD06 ,  2K009DD09 ,  4F202AG01 ,  4F202AH73 ,  4F202AR06 ,  4F202AR12 ,  4F202CA07 ,  4F202CB01 ,  4F202CN01 ,  4F205AG01 ,  4F205AH73 ,  4F205AM26 ,  4F205AM28 ,  4F205AR06 ,  4F205AR17 ,  4F205GA07 ,  4F205GB02 ,  4F205GC07 ,  4F205GN19 ,  4F205GN21 ,  4F205GN28
引用特許：
審査官引用 (5件)
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