光学式インプロセス制御による比濁分析検出ユニット

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高木千嘉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-305163
公開番号（公開出願番号）：特開2000-131233
出願日： 1999年10月27日
公開日（公表日）： 2000年05月12日
要約：

【要約】【課題】分析およびインビトロ診断における自動化測定システムの使用分野に関する。特に、ここに記載する装置は、散乱光信号の測定時の、特性プロセス工学パラメータ、特に、特性光学パラメータの自動品質管理および検査を可能にする。【解決手段】光学式ビーム案内装置を光の散乱成分および透過成分の強度を別々に測定するように調節したことを特徴とする散乱光測定を実施する方法を特徴とする。

請求項（抜粋）：