特許
J-GLOBAL ID:200903050698433585

高周波焼入れ装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大川 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-209513
公開番号(公開出願番号):特開2001-032017
出願日: 1999年07月23日
公開日(公表日): 2001年02月06日
要約:
【要約】【課題】効率良く確実に高周波焼入れを行える高周波焼入れ装置を提供することを目的とする。【解決手段】高周波電流を加熱コイルに流してワークを加熱する高周波誘導加熱部と、冷却液を噴射してその加熱されたワークを冷却する冷却液噴射部を備える高周波焼入れ装置において、加熱中若しくは加熱後の該ワークに飛散してくる該冷却液の飛沫を遮蔽する遮蔽手段を設けたことを特徴とする高周波焼入れ装置。
請求項(抜粋):
高周波電流を加熱コイルに流してワークを加熱する高周波誘導加熱部と、冷却液を噴射してその加熱されたワークを冷却する冷却液噴射部とを備える高周波焼入れ装置において、加熱中若しくは加熱後の該ワークに飛散してくる該冷却液の飛沫を遮蔽する遮蔽手段を設けたことを特徴とする高周波焼入れ装置。
IPC (2件):
C21D 1/10 ,  C21D 9/00
FI (2件):
C21D 1/10 J ,  C21D 9/00 H
Fターム (7件):
4K042BA13 ,  4K042DA01 ,  4K042DB01 ,  4K042DD04 ,  4K042DE02 ,  4K042DE07 ,  4K042EA01

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