特許

J-GLOBAL ID：200903050724084861

プラズマ処理装置

発明者： 平柳 裕久 ,  中村 昇
出願人/特許権者： 日電アネルバ株式会社
代理人 (1件)： 田宮 寛祉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-247482
公開番号（公開出願番号）：特開平7-078700
出願日： 1993年09月08日
公開日（公表日）： 1995年03月20日
要約：

【要約】【目的】 プラズマ処理装置において、対向する2つの電極のいずれかに選択的に高周波電力を供給でき、望ましくは自動的な切換えで容易に高周波電力を供給する電極を選択できる電源供給系を備える。【構成】 容器1と、この容器の内部で対向する位置関係に配置される第1および第2の電極2,3と、容器の内部にガスを供給するガス供給機構4と、2つの電極の間に高周波電力を与えるため第1電極2に整合回路7を介して接続される高周波電源9と、第2電極3の上に設置される基板5とを含み、2つの電極の間にプラズマを発生させ基板を処理するものであり、第1電極および第2電極のそれぞれとアースとの間にスイッチ10a,10b を介して接地回路11a,11b を設け、2つのスイッチのいずれか一方が接続状態、他方が非接続状態に設定されるように構成される。

請求項（抜粋）：

容器と、この容器の内部で対向する位置関係に配置される第1および第2の電極と、前記容器の内部にガスを供給するガス供給機構と、2つの前記電極の間に高周波電力を与えるため前記第1電極に整合回路を介して接続される高周波電源と、前記第2電極の上に設置される基板とを含み、前記2つの電極の間にプラズマを発生させ前記基板を処理するプラズマ処理装置において、前記第1電極および前記第2電極のそれぞれとアースとの間にスイッチを介して接地回路を設け、2つの前記スイッチのいずれか一方が接続状態、他方が非接続状態に設定されることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭61-204938
  
• 特開昭62-111431
  
• 特開昭59-096277