特許
J-GLOBAL ID：200903050724672062
外部燃焼酸化装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中澤 昭彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-196082
公開番号（公開出願番号）：特開平10-041287
出願日： 1996年07月25日
公開日（公表日）： 1998年02月13日
要約：
【要約】【課題】 ガス導入管内を流れる混合ガスの温度の影響が半導体ウェハに及ばないようにすることにより、半導体ウェハに形成される酸化膜の膜厚差を低減することができるようにした外部燃焼酸化装置を提供する。【解決手段】 半導体ウェハWを収納する炉芯管1と、その炉芯管1内に供給される水蒸気と希釈ガスとを混合する混合室5と、その混合室5を加熱するヒータ21と、混合室5と炉芯管1の一方側の端部とを連結し、炉芯管1の側面に沿って延びたガス導入管4と、炉芯管1内のガス導入管4側の下部に設置され、炉芯管1内の温度を検出する温度検出器24と、その温度検出器24によって検出された炉芯管1内の温度に基づいて、ヒータ21の加熱を制御する温度コントローラ22と、を有する。
請求項（抜粋）：
半導体ウェハを収納する炉芯管と、その炉芯管内に供給される水蒸気と希釈ガスとを混合する混合室とその混合室を加熱するヒータと、前記混合室と炉芯管とを連結するガス導入管と、前記炉芯管内の温度を検出する温度検出手段と、その温度検出手段によって検出された炉芯管内の温度に基づいて、前記ヒータの加熱を制御する温度コントローラと、を有することを特徴とする外部燃焼酸化装置。
引用特許：
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