特許
J-GLOBAL ID：200903050731393640
チャンバ構造
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-351279
公開番号（公開出願番号）：特開平5-164361
出願日： 1991年12月13日
公開日（公表日）： 1993年06月29日
要約：
【要約】【目的】 クリーンルームの内部に設置されるチャンバ構造において、該チャンバ内に設置される半導体焼付露光装置の制御温度精度を向上するとともに、前記クリーンルームの設置面積を縮小し製造設備の小型化を図る。【構成】 半導体製造装置と、該半導体製造装置に対し温度制御された空気を供給するための空気循環装置とを収容するチャンバ構造において、前記半導体製造装置を収容するチャンバ部分1と、前記空気循環装置を収容する機械室部分2とを分離して設け、該チャンバ部分および機械室部分同士を給気ダクト3および還気ダクト5を介して連結し、かつ該給気ダクトを該還気ダクト内に収納したことを特徴としている。
請求項（抜粋）：
半導体製造装置と、該半導体製造装置に対し温度制御された空気を供給するための空気循環装置とを収容するチャンバ構造において、前記半導体製造装置を収容するチャンバ部分と、前記空気循環装置を収容する機械室部分とを分離して設け、該チャンバ部分および機械室部分同士を給気ダクトおよび還気ダクトを介して連結し、かつ該給気ダクトを該還気ダクト内に収納したことを特徴とするチャンバ構造。
IPC (3件)：
F24F 3/16
, H01L 21/027
, H01L 21/304 341
