特許
J-GLOBAL ID：200903050735180730
自動液管理システム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-071665
公開番号（公開出願番号）：特開平6-074931
出願日： 1992年03月27日
公開日（公表日）： 1994年03月18日
要約：
【要約】【目的】 連続分析装置により正確に洗浄液中の過酸化水素、オゾン等の成分を測定することができる洗浄液管理システムの提供を目的とする。【構成】 洗浄液中の有効成分濃度を測定する滴定分析装置の測定結果と、洗浄液中の有効成分から酸素ガスを発生させ、かつこの酸素ガスの濃度を測定することでリアルタイムの分析が可能な連続分析装置の測定結果との差を補正値Hとして求め、この補正値Hに基づき、連続分析装置の測定結果を補正するようにした。これにより、連続分析装置内の触媒が経時変化して、連続分析装置の測定結果が不安定となった場合に、この測定結果を有効に補正し、その結果、正確に洗浄液中の過酸化水素、オゾン等の成分を測定することが可能となる。
請求項（抜粋）：
過酸化水素、オゾン等の活性酸素を発生させる成分を含む処理液を一定量サンプリングし、このサンプリングされた処理液に試薬を滴下し、該試薬の滴下に伴って変化する酸化還元電位の変化と、該試薬の滴下量とに基づき、処理液に含まれる成分を定量して、該成分の濃度を測定するようにした滴定分析装置と、前記処理液中の成分を分解して酸素ガスを発生させ、この酸素ガスの濃度に基づき処理液中の成分の濃度を、リアルタイムで連続測定するようにした連続分析装置と、これら滴定分析装置により測定された成分濃度と、連続分析装置により測定された成分濃度とに基づき、連続分析装置により測定された成分濃度を補正するシステム制御部とを有し、上記システム制御部は、滴定分析装置により測定された成分濃度と、連続分析装置により測定された成分濃度との濃度差を演算し、この濃度差に基づき、連続分析装置により測定された成分濃度を補正することを特徴とする自動液管理システム。
IPC (3件)：
G01N 27/26 341
, G01N 27/26 371
, C23G 1/36
