特許
J-GLOBAL ID:200903050744064298

亜酸化銅膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長谷川 芳樹 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-075712
公開番号(公開出願番号):特開平10-265960
出願日: 1997年03月27日
公開日(公表日): 1998年10月06日
要約:
【要約】【課題】 基板の材質を問わず、容易な操作及び簡単な装置によって亜酸化銅のみからなる薄膜あるいは亜酸化銅を主成分とする薄膜を製造することができる方法を提供すること。【解決手段】 220〜300°Cに加熱した基板上に酢酸銅及び還元糖を含む溶液を供給することによって該基板上に亜酸化銅膜を形成することを特徴とする、亜酸化銅膜の製造方法。
請求項(抜粋):
220〜300°Cに加熱した基板上に酢酸銅及び還元糖を含む溶液を供給することによって該基板上に亜酸化銅膜を形成することを特徴とする、亜酸化銅膜の製造方法。

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