特許

J-GLOBAL ID：200903050760533338

成膜方法

発明者： 国安 利明 ,  三好 哲
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (2件)： 渡部 温 ,  宇都宮 正明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-293739
公開番号（公開出願番号）：特開2004-122341
出願日： 2002年10月07日
公開日（公表日）： 2004年04月22日
要約：

【課題】エアロゾルデポジション法を用い、平滑で側面の垂直性が維持された膜を形成することができる成膜方法を提供する。【解決手段】原料の粉体をガスにより噴き上げることによってエアロゾルを生成する工程(a)と、所定の長さ及び幅を有するスリット25を含み、工程(a)において生成されたエアロゾルをスリットを通して噴射するノズル23が、基板2に対して相対的に所定の運動をしながら所定の方向に移動するように、ノズル又は基板を移動させながらエアロゾルを基板に吹き付ける工程(b)とを具備する。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

原料の粉体をガスにより噴き上げることによってエアロゾルを生成する工程(a)と、 所定の長さ及び幅を有するスリットを含み、工程(a)において生成されたエアロゾルを前記スリットを通して噴射するノズルが、基板に対して相対的に所定の運動をしながら所定の方向に移動するように、前記ノズル及び/又は前記基板を移動させながらエアロゾルを前記基板に吹き付ける工程(b)と、 を具備する成膜方法。

IPC (3件)：

B81C5/00 ,  C01B13/14 ,  C23C24/00

FI (3件)：

B81C5/00 ,  C01B13/14 Z ,  C23C24/00

Fターム (18件)：

4G042DA02 ,  4G042DB01 ,  4G042DB26 ,  4G042DD02 ,  4G042DE03 ,  4G042DE13 ,  4K044AB01 ,  4K044BA12 ,  4K044BB01 ,  4K044BB11 ,  4K044BC14 ,  4K044CA23 ,  4K044CA71 ,  5F045AA00 ,  5F045AB31 ,  5F045BB01 ,  5F045EE02 ,  5F045EF01