基板熱処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福島祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-167864
公開番号（公開出願番号）：特開平10-012536
出願日： 1996年06月27日
公開日（公表日）： 1998年01月16日
要約：

【要約】【課題】熱処理空間内における気体の不均一な流動による処理むらが発生することのない簡素な構造の基板熱処理装置を提供する。【解決手段】上部カバー1の下面内側にガス吹き出し用の回転体3を配置する。回転体3は下面外周端を支持部材7に支持され、ベアリング8を介して上部カバー1の内面に回動可能に取り付けられる。回転体3の側面に、モータ9の回転軸に固定された圧接ローラ10を当接させ、モータ9の回転力によって回転体3を回動させる。回転体3の下面の多数の供給孔4からは窒素ガスが熱処理空間11内に吹き出され、プレート20の外周の排気路21を通り外方へ排出される。

請求項（抜粋）：

基台の上方を上部カバーで覆い、前記基台と前記上部カバーとの間に形成された熱処理空間内に基板を保持するとともに、前記基板の上方から前記熱処理空間内に気体を供給しつつ所定の熱処理を行う基板熱処理装置において、前記気体を前記熱処理空間内に導入する給気口を有する給気部材を前記基台の上方に配置し、前記給気部材を前記基板に対して移動させる移動手段を設けたことを特徴とする基板熱処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , H01L 21/22 511

FI (2件)：

H01L 21/30 567 , H01L 21/22 511 A

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