特許

J-GLOBAL ID：200903050770690385

レジスト剥離液用組成物

発明者： 高野 聖史 ,  木下 宏司 ,  橋本 豊
出願人/特許権者： 大日本インキ化学工業株式会社
代理人 (1件)： 高橋 勝利
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-175248
公開番号（公開出願番号）：特開2001-356495
出願日： 2000年06月12日
公開日（公表日）： 2001年12月26日
要約：

【要約】【解決手段】 パーフルオロアルキル基を有する燐酸エステル及びそのアミン塩及びアンモニウム塩の群から選ばれる少なくとも1種類を必須成分として含有してなるレジスト剥離液用組成物。【効果】 同一分子内にパーフルオロアルキル基と燐酸エステル基を有する特徴的な化合物を含有することにより、半導体素子、液晶素子製造工程におけるレジスト剥離性能を低下させることなく、各種金属配線材料に対する優れた防食効果を発現させることが可能である。

請求項（抜粋）：

パーフルオロアルキル基を有する燐酸エステル及びそのアミン塩及びアンモニウム塩の群から選ばれる少なくとも1種類を必須成分として含有してなることを特徴とするレジスト剥離液用組成物。

IPC (7件)：

G03F 7/42 ,  C11D 7/28 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/34 ,  C11D 7/36 ,  C11D 7/60 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 7/42 ,  C11D 7/28 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/34 ,  C11D 7/36 ,  C11D 7/60 ,  H01L 21/30 572 B

Fターム (12件)：

2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096LA03 ,  4H003DA15 ,  4H003EB04 ,  4H003EB14 ,  4H003EB17 ,  4H003EB21 ,  4H003EB23 ,  4H003ED32 ,  4H003FA15 ,  5F046MA02