特許

J-GLOBAL ID：200903050777662824

有機物の高温,好気処理方法及び装置

発明者： 戸田 泰和 ,  新垣 紀夫
出願人/特許権者： 五洋建設株式会社 ,  ペンタテクノサービス株式会社
代理人 (1件)： 澤木 誠一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-210282
公開番号（公開出願番号）：特開2000-024680
出願日： 1998年07月10日
公開日（公表日）： 2000年01月25日
要約：

【要約】【課題】 従来の有機物の高温,好気処理方法及び装置においては、担体や攪拌手段を用いて有機排水を高温,好気処理しており、反応槽が大型となる欠点があった。【解決手段】 本発明の有機物の高温,好気処理方法及び装置においては、反応槽内上部に有機物を散布すると共に、反応槽内下部に加熱空気を導入し、散布された有機物をエアレーションせしめ、生成されたガスを反応槽内から除去する。上記加熱空気の温度は上記反応室内の温度に応じて制御せしめる。

請求項（抜粋）：

反応槽内上部に有機物を散布する工程と、反応槽内下部に加熱空気を供給して上記散布された有機物をエアレーションせしめる工程と、生成されたガスを反応槽内から除去する工程とより成ることを特徴とする有機物の高温,好気処理方法。

IPC (2件)：

C02F 3/12 ,  C02F 11/02 ZAB

FI (3件)：

C02F 3/12 B ,  C02F 3/12 H ,  C02F 11/02 ZAB

Fターム (15件)：

4D028AA03 ,  4D028AB03 ,  4D028BC01 ,  4D028BD00 ,  4D028BD02 ,  4D028CA10 ,  4D028CB03 ,  4D028CD01 ,  4D059AA01 ,  4D059AA30 ,  4D059BA03 ,  4D059BA56 ,  4D059CA16 ,  4D059EA20 ,  4D059EB10