特許
J-GLOBAL ID:200903050822695437
選択的触媒還元用の多段システム
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
谷 義一
, 阿部 和夫
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-543281
公開番号(公開出願番号):特表2009-517210
出願日: 2006年10月10日
公開日(公表日): 2009年04月30日
要約:
本発明の第1の態様は、酸化窒素の排出を制御する方法を含む。この方法は、NOxを含む排気ガスの流れ(11)を生成するステップと、その排気ガスの流れを排気流路(12)に供給するステップとを含むことができる。この方法は、さらに、アンモニアを、第1選択的触媒還元用触媒(18)の上流側の位置点において排気流路に供給するステップを含むことができる。この場合、第1位置点において供給されるアンモニアの量は、第1位置点においてすべてのNOxを還元するに必要なアンモニアの有効量の約90%未満である。さらに、アンモニアを、第1選択的触媒還元用触媒の下流側でかつ第2選択的触媒還元用触媒(22)の上流側の第2位置点において、排気流路に供給することができる。
請求項(抜粋):
酸化窒素の排出を制御する方法であって、
NOxを含む排気ガスの流れ(11)を生成するステップと、
排気ガスの流れを排気流路(12)に供給するステップと、
アンモニアを、第1選択的触媒還元用触媒(18)の上流側の位置点において排気流路に供給するステップであって、第1位置点において供給されるアンモニアの量が、第1位置点においてすべてのNOxを還元するに必要なアンモニアの有効量の約90%未満であるステップと、
アンモニアを、第1選択的触媒還元用触媒の下流側でかつ第2選択的触媒還元用触媒(22)の上流側の第2位置点において排気流路に供給するステップと、
を備える方法。
IPC (3件):
B01D 53/94
, B01D 53/86
, F01N 3/08
FI (4件):
B01D53/36 101Z
, B01D53/36
, F01N3/08 B
, F01N3/08 H
Fターム (23件):
3G091AA02
, 3G091AA06
, 3G091AA18
, 3G091AB05
, 3G091BA14
, 3G091CA17
, 3G091EA17
, 3G091EA33
, 3G091EA34
, 3G091HA08
, 3G091HA36
, 3G091HA37
, 3G091HA42
, 4D048AA06
, 4D048AB02
, 4D048AC04
, 4D048AC10
, 4D048BB02
, 4D048CC32
, 4D048CC44
, 4D048CC61
, 4D048DA01
, 4D048DA10
引用特許:
出願人引用 (1件)
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国際公開第2004/058642A1号パンフレット
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