特許
J-GLOBAL ID：200903050828461721
ウェーハ支持具
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-142471
公開番号（公開出願番号）：特開平7-006959
出願日： 1993年06月15日
公開日（公表日）： 1995年01月10日
要約：
【要約】【目的】ウェーハ支持具の表面に推積した薄膜をエッチングする場合、材質である石英が同時にエッチングされるのを防ぐ。【構成】ウェーハ支持具の材質である石英ガラス表面に、弗化水素酸におけるエッチレートが、石英ガラスよりも低い膜を被覆する。これにより、ウェーハ支持具の表面に推積した薄膜のみがエッチングされ、材質である石英ガラスはエッチングされにくい。従ってウェーハ支持具の消耗を防ぐことができ、かつ寿命が延びる。
請求項（抜粋）：
半導体処理用ウェーハ支持具において、前記ウェーハ支持具の材質と異なる膜を表面に被覆したことを特徴とするウェーハ支持具。
IPC (3件)：
H01L 21/205
, B65D 85/57
, H01L 21/68
